​清寺眞 記念賞

清寺眞記念賞は、メラニン・メラナイゼーション、光集中紫外線生物学をコアとする皮膚科学の多領域において既に国際的なトップレベルに達したリーダー的研究者に対して交付されております。

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受賞理由

・メラノソーム生成過程における糖鎖の意義を世界に先駆けて証明

・紫外線による黒皮化におけるエンドセリン1と幹細胞因子の役割の証明

・紫外線老化による日光黒子の発症メカニズムに関する研究

・多くの大学と協同研究を行っていない多くの研究成果を上げ、日本の色素細胞研究、光生物学研究の発展に大きく貢献​